Symmetric Si/Si1-xGex two-dimensional hole gases grown by rapid thermal chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1991, Vol.59 (22), p.2871-2873
Hauptverfasser: VENKATARAMAN, V, SCHWARTZ, P. V, STURM, J. C
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.105837