Sub-30 nm lithography in a negative electron beal resist with a vacuum scanning tunneling microscope

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1991, Vol.58 (22), p.2526-2528
Hauptverfasser: DOBISZ, E. A, MARRIAN, C. R. K
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118