Prozeßoptimierung bei der Hartstoffbeschichtung im Plasma-CVD-Verfahren mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 1993-03, Vol.24 (3-4), p.120-124
Hauptverfasser:	Rie, K.-T., Gebauer, A., Wöhle, J.
Format:	Artikel
Sprache:	ger
Online-Zugang:	Volltext
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