Intermediate amorphous layer formation mechanism at the interface of epitaxial CeO2 layers and Si substrates

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1993-04, Vol.32 (4), p.1765-1767
Hauptverfasser: INOUE, T, OHSUNA, T, OBARA, Y, YAMAMOTO, Y, SATOH, M, SAKURAI, Y
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/jjap.32.1765