Intermediate amorphous layer formation mechanism at the interface of epitaxial CeO2 layers and Si substrates
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Veröffentlicht in: | Japanese journal of applied physics 1993-04, Vol.32 (4), p.1765-1767 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0021-4922 1347-4065 |
DOI: | 10.1143/jjap.32.1765 |