Outdiffusion and subsequent desorption of volatile SiO molecules during annealing of thick SiO2 films in vacuum

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1993-04, Vol.32 (4A), p.L480-L483
Hauptverfasser:	TAKAKUWA, Y, NIHEI, M, MIYAMOTO, N
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physical properties of thin films, nonelectronic Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface energy thermodynamic properties Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
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