Real-time, in situ monitoring of GaAs and AlGaAs photoluminescence during plasma processing
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Veröffentlicht in: | Applied physics letters 1990-02, Vol.56 (9), p.821-823 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0003-6951 1077-3118 |
DOI: | 10.1063/1.102673 |