Real-time, in situ monitoring of GaAs and AlGaAs photoluminescence during plasma processing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1990-02, Vol.56 (9), p.821-823
Hauptverfasser: MITCHELL, A, GOTTSCHO, R. A, PEARTON, S. J, SCHELLER, G. R
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.102673