Metastable phase formation and structural change characteristics of vapor deposited semiconductor films

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Annalen der Physik (Leipzig) 1992, Vol.1 (6), p.391-398
Hauptverfasser:	FUXI, G, SONGSHENG, X, ZHENGXIU, F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface and interface dynamics and vibrations Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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