Photolithography system using a combination of modified illumination and phase shift mask: MicroProcess

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1992, Vol.31 (12B), p.4131-4136
Hauptverfasser:	KAMON, K, MIYAMOTO, T, MYOI, Y, NAGATA, H, KOTANI, N, TANAKA, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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