Characterization of tungsten deposited by GeH4 reduction of WF6, and its application as contact material to Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1992-12, Vol.139 (12), p.3615-3623
Hauptverfasser:	VAN DER JEUGD, C. A, LEUSINK, G. J, OOSTERLAKEN, T. G. M, ALKEMADE, P. F. A, NANVER, L. K, GOUDENA, E. J. G, JANSSEN, G. C. A. M, RADELAAR, S
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Metals. Metallurgy Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface and interface dynamics and vibrations Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
Online-Zugang:	Volltext
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