Thermoelectric properties and microstructure of Fe-Si-O thin films prepared by ICB method

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Nihon Seramikkusu Kyōkai gakujutsu ronbunshi 1992-07, Vol.100 (7), p.941-945
Hauptverfasser: NAKAGIRI, Y, GYOTEN, H, NISHIWAKI, F, YAMAMOTO, Y
Format: Artikel
Sprache:jpn
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0914-5400