Influence of metalorganic sources on the composition uniformity of selectively grown GaxIn1-xP

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1994, Vol.33 (9A), p.4812-4819
Hauptverfasser:	SHIH-HSIUNG CHAN, CHUN-YEN CHANG, SIMON MING SZE
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Vapor phase epitaxy growth from vapor phase
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