Effect of rare gas dilution on CH3 radical density in RF-discharge CH4 plasma

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1993-12, Vol.32 (12A), p.5721-5725
Hauptverfasser:	NAITO, S, IKEDA, M, ITO, N, HATTORI, T, GOTO, T
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Electric discharges Exact sciences and technology High-frequency discharges Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges
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