Improvement of bonded silicon-on-insulator using TCE-grown oxide as buried SiO2
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Veröffentlicht in: | Japanese journal of applied physics 1993-06, Vol.32 (6A), p.2854-2855 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0021-4922 1347-4065 |
DOI: | 10.1143/jjap.32.2854 |