A production demonstration of wafer-to-wafer plasma gate etch control by adaptative real-time computation of the over-etch time from in situ process signals

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on semiconductor manufacturing 1995, Vol.8 (3), p.304-308
Hauptverfasser:	RIETMAN, E. A, PATEL, S. H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!