Characterization and optimization of the SiO2/SiC metal-oxide semiconductor interface : III-IV nitrides and silicon carbide

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of electronic materials 1995, Vol.24 (4), p.303-309
Hauptverfasser: SHENOY, J. N, CHINDALORE, G. L, MELLOCH, M. R, COOPER, J. A, PALMOUR, J. W, IRVINE, K. G
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0361-5235
1543-186X