Temperature-dependent positive oxide charge annealing by electron tunnelling

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 1995-05, Vol.10 (5), p.586-591
Hauptverfasser: Scharf, S, Schmidt, M, Braunig, D
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641
DOI:10.1088/0268-1242/10/5/003