Molecular design and synthesis of 3-oxoxcyclohexyl methacrylate for ArF and KrF excimer laser resist

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Veröffentlicht in:Chemistry of materials 1994, Vol.6 (9), p.1492-1498
Hauptverfasser: NOZAKI, K, KAIMOTO, Y, TAKAHASHI, M, TAKECHI, S, ABE, N
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
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ISSN:0897-4756
1520-5002