Preparation of SrTiO3 films on 8-inch wafers by chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1996, Vol.35 (9B), p.4875-4879
Hauptverfasser:	ARAI, T. T, INAISHI, Y, SAWADO, Y, KOBAYASHI, I, HIDAKA, J
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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