Deposition of SiO2 and Ta2O5 films by electron-beam-excited plasma ion plating

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	TOKI, K, KUSAKABE, K, ODANI, T, KOBUNA, S, SHIMIZU, Y
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Ion and electron beam-assisted deposition ion plating Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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