Boron carbonitride thin films by PACVD of single-source precursors

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Advanced materials (Weinheim) 1997-10, Vol.9 (12), p.257-262
Hauptverfasser:	HEGEMANN, D, RIEDEL, R, DRESSLER, W, OEHR, C, SCHINDLER, B, BRUNNER, H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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