Effects of O2 addition on BCl3/Cl2 plasma chemistry for Al etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (7B), p.4824-4828
Hauptverfasser:	BANJO, T, TSUCHIHASHI, M, HANAZAKI, M, TUDA, M, ONO, K
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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