Modeling of electron temperature and DC bias voltage in an inductively-coupled Cl2/Ar plasma using neural network

Modeling of electron temperature and DC bias voltage in an inductively-coupled Cl2/Ar plasma using neural network

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MOONKEUN KIM, HANBYEOL JANG, LEE, Yong-Hwa, KWON, Kwang-Ho, PARK, Kang-Bak
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Schlagworte:
Cross-disciplinary physics: materials science
rheology
Exact sciences and technology
Materials science
Physics
Surface treatments
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0257-8972
1879-3347
DOI:10.1016/j.surfcoat.2012.07.040