Highly Selective Dry Etching of Germanium over Germanium-Tin (Ge1―xSnx): A Novel Route for Ge1―xSnx Nanostructure Fabrication
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Veröffentlicht in: | Nano letters 2013-08, Vol.13 (8), p.3783-3790 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1530-6984 1530-6992 |
DOI: | 10.1021/nl4017286 |