Properties of atomic layer deposited dielectrics for AlGaN/GaN device passivation: Gallium nitride electronics

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 2013, Vol.28 (7)
Hauptverfasser: RAMANAN, Narayanan, LEE, Bongmook, KIRKPATRICK, Casey, SURI, Rahul, MISRA, Veena
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641