Ion energy distribution functions behind the sheaths of magnetized and non-magnetized radio frequency discharges: Pulsed high-power plasmas for deposition of nanostructured thin films

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2013, Vol.46 (8)
Hauptverfasser:	TRIESCHMANN, Jan, SHIHAB, Mohammed, SZEREMLEY, Daniel, ELGENDY, Abd Elfattah, GALLIAN, Sara, EREMIN, Denis, BRINKMANN, Ralf Peter, MUSSENBROCK, Thomas
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Exact sciences and technology Particle-in-cell method Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications Plasma simulation Plasma-based ion implantation and deposition
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!