Forming Kinetics in HfO2-Based RRAM Cells
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on electron devices 2013, Vol.60 (1), p.438-443 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | |
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ISSN: | 0018-9383 1557-9646 |
DOI: | 10.1109/TED.2012.2227324 |