Effect of SiO2 film deposition on the ferroelectric properties of a Pt/Pb(Zr, Ti)O3 /Pt capacitor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (3B), p.1593-1596
Hauptverfasser:	OH, S, PARK, I. S, KIM, B. H, LEE, S. M, YOO, C. Y, MOON, J, LEE, S. I, KOH, Y. B, LEE, M. Y
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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