Low temperature deposition of AlN films by an alternate supply of trimethyl aluminum and ammonia

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Advanced materials (Weinheim) 1996, Vol.8 (11), p.277-283
Hauptverfasser:	RIIHELÄ, D, RITALA, M, MATERO, R, LESKELÄ, M, JOKINEN, J, HAUSSALO, P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Vapor phase epitaxy growth from vapor phase
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