An Advanced 405-nm Laser Diode Crystallization Method of a-Si Film for Fabricating Microcrystalline-Si TFTs : Electronic Displays

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEICE transactions on electronics 2011, Vol.94 (11), p.1733-1738
Hauptverfasser: MORIMOTO, Kiyoshi, SUZUKI, Nobuyasu, YAMANAKA, Kazuhiko, YURI, Masaaki, MILLIEZ, Janet, XINBING LIU
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0916-8524
1745-1353