Investigation of Surface Sputtering and Post Annealing Effects on Atomic Layer Deposited HfO2 and TiO2

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2011-05, Vol.24 (2), p.139-144
Hauptverfasser:	QIAN TAO, JURSICH, Gregory M, TAKOUDIS, Christos
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Compound structure devices Electronics Exact sciences and technology Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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