High-speed etching of Si02 using a remote-type pin-to-plate dielectric barrier discharge at atmospheric pressure

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2010, Vol.43 (42)
Hauptverfasser:	JONG SIK OH, JAE BEOM PARK, GIL, Elly, GEUN YOUNG YEOM
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Electric discharges Exact sciences and technology Materials science Other gas discharges Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Surface treatments
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