Electric double layer effect in a nano-scale Si02 sacrificial layer etching process and its application in nanowire fabrication

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Veröffentlicht in:Journal of micromechanics and microengineering 2010, Vol.20 (10)
Hauptverfasser: YIBIN GONG, PENGFEI DAI, ANRAN GAO, TIE LI, PING ZHOU, YUELIN WANG
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0960-1317
1361-6439