Electric double layer effect in a nano-scale Si02 sacrificial layer etching process and its application in nanowire fabrication
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Veröffentlicht in: | Journal of micromechanics and microengineering 2010, Vol.20 (10) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0960-1317 1361-6439 |