Reduction in contact resistance with in situ O2 plasma treatment

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1998, Vol.145 (7), p.2480-2485
Hauptverfasser:	YONEKURA, K, SAKAMORI, S, KAWAI, K, MIYATAKE, H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: electronic structure, electrical, magnetic, and optical properties Contact resistance, contact potential Electronic structure and electrical properties of surfaces, interfaces, thin films and low-dimensional structures Electronic transport in interface structures Exact sciences and technology Physics
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