Reflective multilayer optics for 6.7 nm wavelength radiation sources and next generation lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Thin solid films 2010, Vol.518 (5), p.1365-1368
Hauptverfasser:	TSARFATI, T, VAN DE KRUIJS, R. W. E, ZOETHOUT, E, LOUIS, E, BIJKERK, F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Electromagnetism electron and ion optics Exact sciences and technology Free-electron lasers Fundamental areas of phenomenology (including applications) Physics Radiation by moving charges Structure and morphology thickness Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0040-6090 1879-2731