AFM and contact angle investigation of growth and structure of pp-HMDSO thin films: Carbon-free SiOx films deposited from octamethylcyclotetrasiloxane

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Veröffentlicht in:The European physical journal. D, Atomic, molecular, and optical physics Atomic, molecular, and optical physics, 2009, Vol.54 (2), p.165-172
Hauptverfasser: GRIMOLDI, E, ZANINI, S, SILIPRANDI, R. A, RICCARDI, C
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1434-6060
1434-6079