Internal stress and microstructure of WNx bilayer films for X-ray masks
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Veröffentlicht in: | Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (12B), p.7570-7574 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | |
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ISSN: | 0021-4922 1347-4065 |
DOI: | 10.1143/jjap.36.7570 |