Internal stress and microstructure of WNx bilayer films for X-ray masks

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (12B), p.7570-7574
Hauptverfasser: LEE, D.-H, PARK, C.-K, SONG, K.-C, JEON, Y.-S, LEE, T. H, JEONG, C. Y, AHN, J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/jjap.36.7570