Deposition characteristics of (Ba, Sr)TiO3 thin films by liquid source metal-organic chemical vapor deposition at low substrate temperatures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (11), p.6946-6952
Hauptverfasser:	KANG, C. S, CHO, H.-J, HWANG, C. S, LEE, B. T, LEE, K.-H, HORII, H, KIM, W. D, LEE, S. I, LEE, M. Y
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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