Characteristcs of Ga-Doped ZnO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering in Ar + H2 Ambience : Functional thin films for optical applications

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEICE transactions on electronics 2008, Vol.91 (10), p.1649-1652
Hauptverfasser:	MUTO, Koichi, ODASHIMA, Satoru, NASU, Norimitsu, MICHIKAMI, Osamu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Deposition by sputtering Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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