Deposition of tantalum oxide films by UV laser reactive ablation in O3 ambient

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (11), p.6714-6717
Hauptverfasser: ZHENGWEN, F, MINGFEI, Z, QIZONG, Q, SHENKUN, Z, FANG, L
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.36.6714