Study of CF4, C2F6, SF6 and NF3 decomposition characteristics and etching performance in plasma state

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1997, Vol.36 (9A), p.5724-5728
Hauptverfasser:	KOIKE, K, FUKUDA, T, FUJIKAWA, S, SAEDA, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Exact sciences and technology Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications
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