Design Consideration of Bulk FinFETs Devices With n+/p+/n+ Gate and p+/n+ Gate for Sub-50-nm DRAM Cell Transistors
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on nanotechnology 2008-07, Vol.7 (4), p.427-433 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1536-125X 1941-0085 |
DOI: | 10.1109/TNANO.2008.926381 |