Controlled Deposition of SiΟ2 Nanoparticles of NIST-Traceable Particle Sizes for Mask Surface Inspection System Characterization

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2008, Vol.21 (2), p.238-243
Hauptverfasser:	YOOK, Se-Jin, FISSAN, Heinz, ENGELKE, Thomas, ASBACH, Christof, VAN DER ZWAAG, Till, JUNG HYEUN KIM, ESCHBACH, Florence, JING WANG, PUI, David Y. H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Design. Technologies. Operation analysis. Testing Electronics Exact sciences and technology Imaging devices Integrated circuits Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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