Critical layer thickness in compositionally-graded semiconductor layers with non-zero interfacial mismatch
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Veröffentlicht in: | Semiconductor science and technology 2008-04, Vol.23 (4), p.045018 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | |
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ISSN: | 0268-1242 1361-6641 |
DOI: | 10.1088/0268-1242/23/4/045018 |