Critical layer thickness in compositionally-graded semiconductor layers with non-zero interfacial mismatch

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 2008-04, Vol.23 (4), p.045018
1. Verfasser: Ayers, J E
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641
DOI:10.1088/0268-1242/23/4/045018