Resonance transition 795-nm rubidium laser using 3He buffer gas

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Optics communications 2008, Vol.281 (5), p.1222-1225
Hauptverfasser:	WU, Sheldon S. Q, SOULES, Thomas F, PAGE, Ralph H, MITCHELL, Scott C, KANZ, V. Keith, BEACH, Raymond J
Format:	Artikel
Sprache:	fre
Schlagworte:	Caractéristiques des faisceaux laser: intensité, profil et puissance formation d'un motif spatial Domaines classiques de la physique (y compris les applications) Lasers Lasers à gaz, incluant les lasers à excimère et les lasers à vapeur métallique Optique Physique Sciences exactes et technologie Systèmes optiques laser: conception et fonctionnement
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