Direct simulation Monte Carlo analysis of flows and etch rate in an inductively coupled plasma reactor : Special issue on the modeling of collisional or near-collisionless low-temperature plasmas

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on plasma science 1999, Vol.27 (5), p.1379-1388
Hauptverfasser:	NANBU, K, MORIMOTO, T, SUETANI, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Exact sciences and technology Monte carlo methods Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications Plasma simulation
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