Reduction in misfit dislocation density by the selective growth of Si1-xGex/Si in small areas

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 1990, Vol.56 (1), p.51-53
Hauptverfasser: NOBLE, D. B, HOYT, J. L, KING, C. A, GIBBONS, J. F, KAMINS, T. I, SCOTT, M. P
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.103176