CuCl microcrystalline-doped SiO3 glass thin films prepared by RF sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1991, Vol.30 (4), p.L764-L767
Hauptverfasser: TSUNETOMO, K, SHIMIZU, R, KAWABUCHI, A, KITAYAMA, H, OSAKA, Y
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065