Epitaxy and orientation of Eu1Ba2Cu3O7-y films grown in situ by magnetron sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1989, Vol.28 (6), p.L981-L983
Hauptverfasser:	ASANO, H, ASAHI, M, MICHIKAMI, O
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Deposition by sputtering Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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