Positive and negative resistlesslithography of GaAs by electron beam exposure and thermal Cl2 etching

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 1990, Vol.57 (10), p.1043-1045
Hauptverfasser:	CLAUSEN, E. M, HARBISON, J. P, CHANG, C. C, LIN, P. S. D, CRAIGHEAD, H. G, FLOREZ, L. T
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Mechanical and acoustical properties adhesion Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Solid-fluid interfaces Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
Online-Zugang:	Volltext
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