Study of silicide contacts to SiGe source/drain

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LAUWERS, A, VAN DAL, M. J. H, VERHEYEN, P, CHAMIRIAN, O, DEMEURISSE, C, MERTENS, S, VRANCKEN, C, VERHEYDEN, K, FUNK, K, KITTL, J. A
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0167-9317
1873-5568